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當(dāng)前位置:首頁 >產(chǎn)品中心>>氨分解制氫裝置>加氫除氧氮?dú)饧兓O(shè)備

加氫除氧氮?dú)饧兓O(shè)備

簡要描述:加氫除氧氮?dú)饧兓O(shè)備利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮?dú)庵屑尤霘錃?,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮?dú)狻?/p>

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2021-05-17
  • 訪  問  量:882

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)

加氫除氧氮?dú)饧兓O(shè)備原理;

O2 + H2 ----- HO2

     利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮?dú)庵屑尤霘錃?,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮?dú)狻?/p>

加氫除氧氮?dú)饧兓O(shè)備特點(diǎn): 

● 純氣含過量氫,適合需還原性氣氛的應(yīng)用,氫含量可調(diào)。

● 原理簡單,結(jié)構(gòu)合理,能耗低

● 氣體指標(biāo)溫度,雜質(zhì)含量低

● 可選配自動系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)無人值守

● 應(yīng)用范圍廣,對原料氣無特殊要求

 

技術(shù)指標(biāo):

普通氮?dú)猓?/p>

● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10~5000Nm3/hr

 

高純氮?dú)猓?br />● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點(diǎn)——≤-70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮?dú)饬?mdash;—10~5000Nm3/hr

 

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